安徽纯源镀膜科技有限公司主要从事真空镀膜设备的设计、研发、制造、销售、售后服务和镀膜生产服务，在纯离子镀膜（Pure Ion Coating，简称PIC）、化学气相沉积（CVD）、磁控溅射、多弧离子镀、离子束刻蚀清洗等真空镀膜应用领域均拥有国内外尖端技术。

　　公司目前拥有50多项知识产权，其中，多项专利设备纯离子镀膜（Pure Ion Coating，简称PIC）能够制造出性能优越的金属膜、合金膜、金属化合物膜和金刚石薄膜；另一项专利产品NDT(New Diamond Technology)能够制成性能优越稳定的金刚石薄膜。膜层系列有Ta-C、DLC、低温氮化物膜 (TiN,CrN等)、碳化物膜 (CrC等)和高致密金属/合金膜等。

　　根据膜层种类和应用行业的不同，纯源镀膜制备的纳米/微米级膜层具有镀膜温度低、无热应力、高纯度、高致密、超硬、无颗粒、耐磨损、摩擦系数小、防刮花、耐腐蚀、均匀性好、粘附性好、导电性能可调、高热导、生物相容性、抑菌性和红外/激光透过率高（适当膜层材料）等特点，膜层可以广泛应用在3C消费电子、半导体、交通工具、刀具模具、新能源、医疗、军工航天和科研等行业。